聚四氟乙烯薄膜及其制备方法和应用技术，具有高光透过和疏水功能。类聚合物薄膜的发展可以追溯到20世纪60年代末，该类薄膜可用于低摩擦涂层、介电膜和光学涂层等领域。其中，氟碳聚合物作为一种重要的高分子材料，具有优异的耐腐蚀性、低介电性、自润滑性、低表面能及优异的化学稳定性、不粘、疏水等特点。聚四氟乙烯是一种含有碳和氟的高分子材料，具有较高的机械强度、热和化学稳定性以及优异的绝缘性能。由于其具有上述优点，聚四氟乙烯薄膜被广泛应用于许多领域，如：建筑窗的防污染涂层、疏水面料等。但是，由于聚四氟乙烯薄膜具有良好的化学稳定性，使其不溶于任何溶剂和其他材料的附着力较差，通常用于制备薄膜的方法，如旋转喷涂法，很难应用于制备聚四氟乙烯薄膜。为此，研究人员开始了大量的工作来解决这个问题。目前，已经发展了许多用于制备聚四氟乙烯薄膜的CVD和PVD技术，如磁控溅射、激光烧蚀、离子束和PECVD，是目前合成这种薄膜常用的方法。其中，磁控溅射技术具有低温沉积、附着力好、沉积率高、化学成分可调等诸多优点。早在1852年，英国W.Grove就在放电中观察到从阴及上飞溅出来的物质就被污染在管壁上。自1870年以来，人们一直在使用这种现象来制备薄膜。飞溅技术被称为高速、低温飞溅技术，广泛应用于电力、机械行业，其工艺简单，节省时间，环境友好，薄膜结构对大多数基础附着力都是一致的。磁控飞溅法是在20世纪70年代，在射频飞溅的基础上发展起来的一种飞溅涂层法。在射频飞溅装置的基础上，电及结构得到了改 善，通常是在靶的阴及上。